Sputtering კვების წყარო
-
MSB სერიის საშუალო სიხშირის ჭურვის კვების წყარო
RHH სერიის RF ელექტრომომარაგება ეყრდნობა სექსუალურ RF გენერაციის ტექნოლოგიას, რათა მომხმარებელს მიაწოდოს RF ელექტრომომარაგება მეტი სიმძლავრით, უფრო მაღალი სიზუსტით და სწრაფი რეაგირებით.ფაზასთან ერთად შეიძლება დაყენდეს, პულსის კონტროლირებადი, ციფრული რეგულირება და სხვა ფუნქციები.გამოსაყენებელი სფეროები: ფოტოელექტრული ინდუსტრია, ბრტყელი პანელის ჩვენების ინდუსტრია, ნახევარგამტარული ინდუსტრია, ქიმიური მრეწველობა, ლაბორატორია, სამეცნიერო კვლევა, წარმოება და ა.შ.
გამოსაყენებელი პროცესები: პლაზმის გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირება (PECVD), პლაზმური ჭურვი, პლაზმის გაწმენდა, რადიოსიხშირული იონური წყარო, პლაზმის დიფუზია, პლაზმური პოლიმერიზაციის დაფხვრა, რეაქტიული დაფხვრა და ა.შ.
-
MSD სერიის Sputtering კვების წყარო
MSD სერიის DC sputtering კვების წყარო იღებს კომპანიის ძირითადი DC კონტროლის სისტემას, რომელიც შერწყმულია რკალის დამუშავების შესანიშნავი სქემით, ასე რომ პროდუქტს აქვს ძალიან სტაბილური შესრულება, მაღალი პროდუქტის საიმედოობა, მცირე რკალის დაზიანება და კარგი პროცესის განმეორებადობა.მიიღეთ ჩინური და ინგლისური დისპლეის ინტერფეისი, მარტივი მუშაობა.